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PROCEEDINGS OF THE IEEE

ISSN: 0018-9219   Frecuencia: 12   Formato: Impresa

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17 artículos asociados

Volumen 93 Número 1 Parte 0 Año 2005

Etoh, M.; Yoshimura, T.
Pág. 111 - 122  

Qian Zhang; Wenwu Zhu; Ya-qin Zhang
Pág. 123 - 134  

Katsaggelos, A.K.; Eisenberg, Y.; Zhai, F.; Berry, R.; Pappas, T.N.
Pág. 135 - 147  

Shih-Fu Chang; Vetro, A.
Pág. 148 - 158  

Ganjam, A.; Zhang, H.
Pág. 159 - 170  

Lin, E.I.; Eskicioglu, A.M.; Lagendijk, R.L.; Delp, E.J.
Pág. 171 - 183  

Sullivan, G.J.; Wiegand, T.
Pág. 18 - 31  

Po-chih Tseng; Yung-chi Chang; Yu-wen Huang; Hung-chi Fang; Chao-tsung Huang; Liang-gee Chen
Pág. 184 - 197  

Brittain, J.E.
Pág. 198 - 202  

Zhu, W.; SunGuestEditor, M.-T.; ChenGuestEditor, L.-G.; Sikora, T.
Pág. 3 - 5  

Lee, D.T.
Pág. 32 - 41  

Ohm, J.-R.
Pág. 42 - 56  

Yao Wang; Reibman, A.R.; Shunan Lin
Pág. 57 - 70  

Sikora, T.
Pág. 6 - 17  

Girod, B.; Aaron, A.M.; Rane, S.; Rebollo-Monedero, D.
Pág. 71 - 83  

Jun Xin; Chia-Wen Lin; Ming-Ting Sun
Pág. 84 - 97  

Smolic, A.; Kauff, P.
Pág. 98 - 110