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Induced thermal stress fields for three-dimensional distortion control of Si wafer topography

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Schaper, C. D. Chen, B.-D. Pease, R. F. W. Pág. 1997 - 2002

Revista: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 75 Num: 6 Par: 0 Año: 2004

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