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Surface modification of Si(111) substrate by iron ion implantation: Growth of a thin -FeSi2 layer

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R. Ayache, A. Bouabellou, F. Eichhorn, E. Richter, and A. Mücklich

Revista: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 77 Num: 3 Par: 0 Año: 2006

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