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Ion-beam lithography by use of highly charged Ar-ion beam

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Sadao Momota, Shingo Iwamitsu, Shougo Goto, Yoichi Nojiri, Jun Taniguchi, Iwao Miyamoto, Hirohisa Ohno, Noboru Morita, and Noritaka Kawasegi

Revista: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 77 Num: 3 Par: 0 Año: 2006

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