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Development of a spatially controllable chemical vapor deposition reactor with combinatorial processing capabilities

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J. O. Choo, R. A. Adomaitis, L. Henn-Lecordier, Y. Cai, and G. W. Rubloff Pág. -

Revista: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 76 Num: 6 Par: 0 Año: 2005

A reduced-basis discretization method for chemical vapor deposition reactor simulation

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Adomaitis, R. A. Pág. 159 - 175

Revista: MATHEMATICAL AND COMPUTER MODELLING Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 38 Num: 1-2 Par: 0 Año: 2003

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