AVANZADA

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In Situ Plasma Monitoring of PECVD nc-Si:H Films and the Influence of Dilution Ratio on Structural Evolution

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Yu-Lin Hsieh, Li-Han Kau, Hung-Jui Huang, Chien-Chieh Lee, Yiin-Kuen Fuh and Tomi T. Li

Revista: Coatings Formato: Electrónico

Tabla de contenido: Vol: 8 Num: 7 Par: July Año: 2018

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