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Investigation of machine compliance uniformity for nanoindentation screening of wafer-supported libraries

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Oden L. Warren, Arpit Dwivedi, Thomas J. Wyrobek, Olugbenga O. Famodu, and Ichiro Takeuchi Pág. -

Revista: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 76 Num: 6 Par: 0 Año: 2005

Data management and visualization of x-ray diffraction spectra from thin film ternary composition spreads

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I. Takeuchi, C. J. Long, O. O. Famodu, M. Murakami, J. Hattrick-Simpers, G. W. Rubloff, M. Stukowski, and K. Rajan Pág. -

Revista: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 76 Num: 6 Par: 0 Año: 2005

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