AVANZADA

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On dipping of ¿-TiAl in low-concentration phosphoric acid solution and consecutive oxidation resistance at 800°C

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S.Y. Brou, R. Siab, G. Bonnet and J.L. Grosseau-Pou Pág. 517 - 520

Revista: SCRIPTA MATERIALIA Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 56 Num: 6 Par: 0 Año: 2007

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