AVANZADA

1 Artículos

A new instrument for thermal electron attachment at high temperature: NF3 and CH3Cl attachment rate constants up to 1100 K

Solicitud

usuarios registrados

Thomas M. Miller, Jeffrey F. Friedman, John S. Williamson, Linda C. Schaffer, and A. A. Viggiano

Revista: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 80 Num: 3 Par: 0 Año: 2009

« Anterior Página: 1 de 1 Siguiente »