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Modeling and simulation of thermal chlorine etching of gallium arsenide with application to real-time feedback control

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Rosen, I. G. Parent, T. Mancera, R. Chen, P. Madhukar, A. Pág. 335 - 360

Revista: MATHEMATICAL AND COMPUTER MODELLING Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 35 Num: 3-4 Par: 0 Año: 2002

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