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Experimental determination of residual stress in silicon nitride diffusion bonds obtained by high-energy X-ray diffraction
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M. Vila, M.L. Martínez, C. Prieto, P. Miranzo, M.I. Osendi, A. Terry and G. Vaughan
Pág. 60 - 63
Revista:
POWDER TECHNOLOGY
Formato:
Impreso
Tabla de contenido:
Vol: 148 Num: 1 Par: 0 Año: 2004
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