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An improved relation for the effective elastic compliance of a film/substrate system during indentation by a flat cylindrical punch
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Haitao Xu and G.M. Pharr
Pág. 315 - 318
Revista:
SCRIPTA MATERIALIA
Formato:
Impreso
Tabla de contenido:
Vol: 55 Num: 4 Par: Año: 2006
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