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Xiuhua Fu, Gong Zhang, Jing Zhang, Kai Guo and Yonggang Pan    
During the electron beam evaporation for deposition of an aluminium film, high-speed electrons decelerate when they bombard the material and part of the electron energy contributes to radiation. Due to the high sensitivity of polymethyl methacrylate (PMM... ver más
Revista: Coatings    Formato: Electrónico

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