AVANZADA

1 Artículos

Development of a spatially controllable chemical vapor deposition reactor with combinatorial processing capabilities

Solicitud

usuarios registrados

J. O. Choo, R. A. Adomaitis, L. Henn-Lecordier, Y. Cai, and G. W. Rubloff Pág. -

Revista: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 76 Num: 6 Par: 0 Año: 2005

« Anterior Página: 1 de 1 Siguiente »