AVANZADA

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On the behavior of charged particles in the near wall region of a channel flow

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Rambaud, P. Taniere, A. Oesterie, B. Buchlin, J. M. Pág. 199 - 205

Revista: POWDER TECHNOLOGY Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 125 Num: 2-3 Par: 0 Año: 2002

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