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Elena Alexandra Serban, Aditya Prabaswara, Justinas Palisaitis, Per Ola Åke Persson, Lars Hultman, Jens Birch and Ching-Lien Hsiao    
Selective-area grown, catalyst-free GaN nanorod (NR) arrays grown on Si substrates have been realized using liquid-target reactive magnetron sputter epitaxy (MSE). Focused ion beam lithography (FIBL) was applied to pattern Si substrates with TiNx masks. ... ver más
Revista: Coatings    Formato: Electrónico

 
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H. Willmann, M. Beckers, F. Giuliani, J. Birch, P.H. Mayrhofer, C. Mitterer and L. Hu     Pág. 1089 - 1092
Revista: SCRIPTA MATERIALIA    Formato: Impreso

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