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Negative-ion implantation into thin SiO2 layer for defined nanoparticle formation

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Hiroshi Tsuji, Nobutoshi Arai, Naoyuki Gotoh, Takashi Minotani, Toyoji Ishibashi, Tetsuya Okumine, Kouichiro Adachi, Hiroshi Kotaki, Yasuhito Gotoh, and Junzo Ishikawa

Revista: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 77 Num: 3 Par: 0 Año: 2006

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