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Size control of silicon nanocrystals in silicon nitride film deposited by catalytic chemical vapor deposition at a low temperature (200 °C)

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Kyoung-Min Lee, Tae-Hwan Kim, Jae-Dam Hwang, Seunghun Jang, Kiyoung Jeong, Moonsup Han, Sunghwan Won, Junghyun Sok, Kyoungwan Park, Wan-Shick Hong Pág. 703 - 705

Revista: SCRIPTA MATERIALIA Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 60 Num: 8 Par: 0 Año: 2009

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