1 Artículos

In situ study of stress relaxation mechanisms of pure Al thin films during isothermal annealing

Solicitud

usuarios registrados

Soo-Jung Hwang, Yong-Duck Lee, Young-Bae Park, Je-Hun Lee, Chang-Oh Jeong and Young-Chang Joo Pág. 1841 - 1846

Revista: SCRIPTA MATERIALIA Formato: Impreso

Tabla de contenido: Vol: 54 Num: 11 Par: 0 Año: 2006

« Anterior Página: 1 de 1 Siguiente »