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Vol: 56 Núm: 3 Par: 0 (2007)
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TITULO
Nanoindentation creep of plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon oxide thin films
Zhiqiang Cao and Xin
Resumen
No disponible
PÁGINAS
pp. 249 - 252
NÚMERO
Volumen: 56 Número: 3 Parte: 0 (2007)
MATERIAS
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