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REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS

Inicio / REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS / Vol: 77 Núm: 3 Par: 0 (2006) / Artículo

ARTÍCULO

TITULO

High-repetition-rate (6 kHz) and long-pulse-duration (50 ns) ArF excimer laser for sub-65 nm lithography

Koji Kakizaki

Yoichi Sasaki

Toyoharu Inoue

and Yosuke Sakai

Resumen

No disponible

PÁGINAS

NÚMERO

Volumen: 77 Número: 3 Parte: 0 (2006)

MATERIAS

INGENIERÍA Y CONSTRUCCIÓN CIVIL

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