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REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS

Inicio / REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS / Vol: 73 Núm: 11 Par: 0 (2002) / Artículo

ARTÍCULO

TITULO

Reactive sputter deposition of alumina thin films using a hollow cathode sputtering source

Pradhan

A. A. Shah

S. I. Unruh

K. M.

Resumen

No disponible

PÁGINAS

pp. 3841 - 3845

NÚMERO

Volumen: 73 Número: 11 Parte: 0 (2002)

MATERIAS

INGENIERÍA Y CONSTRUCCIÓN CIVIL

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